Photon sieve array X-ray maskless nanolithography
文献类型：期刊论文
| 作者 | Cheng, GX ; Xing, TW ; Lin, WM ; Zhou, JM ; Qiu, CK ; Liao, ZJ ; Yang, Y ; Hong, L ; Ma, JL |
| 刊名 | Proceedings of SPIE
 |
| 出版日期 | 2007 |
| 卷号 | 6517页码:651736.1-651736.6 |
| 通讯作者 | Cheng, GX |
| 收录类别 | EI |
| 语种 | 英语 |
| 公开日期 | 2015-12-24 |
| 源URL | [http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/1735]  |
| 专题 | 光电技术研究所_微细加工光学技术国家重点实验室（开放室） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Cheng, GX,Xing, TW,Lin, WM,et al. Photon sieve array X-ray maskless nanolithography[J]. Proceedings of SPIE,2007,6517:651736.1-651736.6. |
| APA | Cheng, GX.,Xing, TW.,Lin, WM.,Zhou, JM.,Qiu, CK.,...&Ma, JL.(2007).Photon sieve array X-ray maskless nanolithography.Proceedings of SPIE,6517,651736.1-651736.6. |
| MLA | Cheng, GX,et al."Photon sieve array X-ray maskless nanolithography".Proceedings of SPIE 6517(2007):651736.1-651736.6. |
入库方式： OAI收割
来源：光电技术研究所
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