Sub-diffraction-limited interference photolithography with metamaterials
文献类型：期刊论文
| 作者 | Xu, T (Xu, Ting) ; Zhao, YH (Zhao, Yanhui) ; Ma, JX (Ma, Junxian) ; Wang, CT (Wang, Changtao) ; Cui, JH (Cui, Jianhua) ; Du, CL (Du, Chunlei) ; Luo, XG (Luo, Xiangang) |
| 刊名 | OPTICS EXPRESS
 |
| 出版日期 | 2008 |
| 卷号 | 16期号:18页码:13579-13584 SEP 1 |
| ISSN号 | 1094-4105 |
| 中文摘要 | We present that an interference lithography technique beyond the diffraction limit can be theoretically achieved by positing an anisotropic metamaterial under the conventional lithographic mask. Based on the special dispersion characteristics of the metam |
| 学科主题 | 微细加工技术 |
| 收录类别 | SCI ; EI |
| 语种 | 英语 |
| 公开日期 | 2015-12-24 |
| 源URL | [http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/2047]  |
| 专题 | 光电技术研究所_微细加工光学技术国家重点实验室（开放室） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Xu, T ,Zhao, YH ,Ma, JX ,et al. Sub-diffraction-limited interference photolithography with metamaterials[J]. OPTICS EXPRESS,2008,16(18):13579-13584 SEP 1. |
| APA | Xu, T .,Zhao, YH .,Ma, JX .,Wang, CT .,Cui, JH .,...&Luo, XG .(2008).Sub-diffraction-limited interference photolithography with metamaterials.OPTICS EXPRESS,16(18),13579-13584 SEP 1. |
| MLA | Xu, T ,et al."Sub-diffraction-limited interference photolithography with metamaterials".OPTICS EXPRESS 16.18(2008):13579-13584 SEP 1. |
入库方式： OAI收割
来源：光电技术研究所
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