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采用离子注入制备非极性GaN基稀磁半导体材料的方法 专利  OAI收割
专利类型: 发明, 专利号: CN201010201489.0, CN201010201489.0, 公开日期: 2011-08-31, 2011-08-31
作者:  
孙莉莉;  闫发旺;  张会肖;  王军喜;  王国宏
  |  收藏  |  浏览/下载:10/0  |  提交时间:2011/08/31