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发表日期
  • 1991 [1]
学科主题
  • 半导体材料 [1]
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INTERACTION OF CO WITH SI AND SIO2 DURING RAPID THERMAL ANNEALING 期刊论文  OAI收割
journal of applied physics, 1991, 卷号: 69, 期号: 11, 页码: 7612-7619
CHEN WD; CUI YD; HSU CC; TAO J
收藏  |  浏览/下载:25/0  |  提交时间:2010/11/15
GROWTH  SILICIDES  KINETICS  CRYSTAL  SILICON  FILMS  COSI2  CO2SI  TI