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  • 物理研究所 [1]
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  • 2008 [1]
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200 nm gate-length GaAs-based MHEMT devices by electron beam lithography 期刊论文  OAI收割
CHINESE SCIENCE BULLETIN, 2008, 卷号: 53, 期号: 22, 页码: 3585
Xu, JB; Zhang, HY; Wang, WX; Liu, L; Li, M; Fu, XJ; Niu, JB; Ye, TC
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