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采用TEOS和H_2O源PECVD方法生长氧化硅厚膜(英文) 期刊论文  OAI收割
半导体学报, 2001, 卷号: 22, 期号: 5, 页码: 543
雷红兵; 王红杰; 邓晓清; 杨沁清; 胡雄伟; 王启明; 廖左升; 杨基南
收藏  |  浏览/下载:28/0  |  提交时间:2010/11/23