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• 力学研究所 [1]

采集方式

• OAI收割 [1]

内容类型

• 期刊论文 [1]

发表日期

• 2015 [1]

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浏览/检索结果: 共1条，第1-1条 帮助 条数/页： 5101520253035404550556065707580859095100 排序方式： 请选择题名升序题名降序提交时间升序提交时间降序作者升序作者降序发表日期升序发表日期降序 离子源预处理工艺对WC基底表面及Ta缓冲涂层的影响 期刊论文  OAI收割 材料热处理学报, 2015, 卷号: 36, 期号: 6, 页码: 164-168 作者:  魏俊俊;  朱小研;  陈良贤;  刘金龙;  黑立富 收藏  |  浏览/下载：54/0  |  提交时间：2015/12/25 离子源预处理  结合力  表面粗糙度  表面最大峰谷值