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海洋研究所 [1]
近代物理研究所 [1]
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OAI收割 [2]
内容类型
专利 [1]
期刊论文 [1]
发表日期
2012 [1]
2002 [1]
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一种缓释型青霉素阴离子插层水滑石材料及其制备和应用
专利
OAI收割
专利类型: 发明, 专利号: CN201110290535.3, 申请日期: 2012-06-20, 公开日期: 2012-06-20
作者:
王毅
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浏览/下载:49/0
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提交时间:2014/08/04
一种缓释型青霉素阴离子插层水滑石材料
M3+为Al3+
M2+/M3+的摩尔比为1.6~4.5
0.2≤x≤0.4。
其特征在于:所述水滑石材料化学组成通式为[M2+1?xM3+x(OH)2]x+(C16H17N2O4S?)x·nH2O
Cr3+
M2+为Mg2+
Fe3+
Zn2+
V3+
Ni2+
Co3+
Fe2+或Mn2+的二价金属离子
Ga3+或Ti3+的三价金属离子
Measurement of reaction cross section for proton-rich nuclei (A < 30) at intermediate energies
期刊论文
OAI收割
NUCLEAR PHYSICS A, 2002, 卷号: 707, 页码: 303-324
作者:
Zhang, HY
;
Shen, WQ
;
Ren, ZZ
;
Ma, YG
;
Jiang, WZ
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提交时间:2018/05/31
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