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福建物质结构研究所 [1]
海洋研究所 [1]
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OAI收割 [2]
内容类型
专利 [1]
期刊论文 [1]
发表日期
2012 [1]
2010 [1]
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一种缓释型青霉素阴离子插层水滑石材料及其制备和应用
专利
OAI收割
专利类型: 发明, 专利号: CN201110290535.3, 申请日期: 2012-06-20, 公开日期: 2012-06-20
作者:
王毅
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浏览/下载:47/0
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提交时间:2014/08/04
一种缓释型青霉素阴离子插层水滑石材料
M3+为Al3+
M2+/M3+的摩尔比为1.6~4.5
0.2≤x≤0.4。
其特征在于:所述水滑石材料化学组成通式为[M2+1?xM3+x(OH)2]x+(C16H17N2O4S?)x·nH2O
Cr3+
M2+为Mg2+
Fe3+
Zn2+
V3+
Ni2+
Co3+
Fe2+或Mn2+的二价金属离子
Ga3+或Ti3+的三价金属离子
Synthesis and Characterization of Nanocrystalline GaN by Ammonothermal Method Using CsNH2 as Mineralizer
期刊论文
OAI收割
Journal of Nanoscience and Nanotechnology, 2010, 卷号: 10, 期号: 9, 页码: 5741-5745
W. W. Lin, J. Huang, D. G. Chen, Z. Lin, W. Li, J. K. Huang and F. Huang
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提交时间:2012/11/02
Ammonothermal
GaN
Mineralizer
Nanocrystals
CsNH2
gallium nitride
doped gan
crystal-growth
quantum dots
temperature
route
(ga(nh)(3/2))(n)
ferromagnetism
nanoparticles
conversion