机构

• 上海光学精密机械研究... [9]
• 光电技术研究所 [1]

采集方式

• OAI收割 [10]

内容类型

• 期刊论文 [6]
• 学位论文 [4]

发表日期

• 2016 [1]
• 2015 [2]
• 2014 [6]

学科主题

• 光学工程 [1]

筛选

浏览/检索结果: 共10条，第1-10条 帮助 条数/页： 5101520253035404550556065707580859095100 排序方式： 请选择题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序作者升序作者降序 基于遗传算法的光刻机光源掩模优化技术研究 学位论文  OAI收割 博士: 中国科学院上海光学精密机械研究所, 2016 作者:  杨朝兴 收藏  |  浏览/下载：71/0  |  提交时间：2016/11/28 光刻  分辨率增强技术  光源掩模优化  遗传算法   自定义照明模式分辨力增强技术研究 学位论文  OAI收割 博士, 北京: 中国科学院研究生院, 2015 作者:  江海波 收藏  |  浏览/下载：56/0  |  提交时间：2015/07/30 光学光刻  计算光刻  光刻仿真  分辨力增强技术  照明模式  光源掩模优化（SMO）   倾斜/旋转紫外光刻技术研究 学位论文  OAI收割 硕士: 中国科学院上海光学精密机械研究所, 2015 作者:  何骏 收藏  |  浏览/下载：63/0  |  提交时间：2016/11/28 倾斜/旋转紫外光刻  仿真模型  MEMS  衍射  掩模优化   基于二次规划的光刻机光源优化方法 期刊论文  OAI收割 光学学报, 2014, 卷号: 34, 期号: 10, 页码: 257 作者:  闫观勇;  李思坤;  王向朝 收藏  |  浏览/下载：21/0  |  提交时间：2016/11/25 光学设计  光刻  分辨率增强  光源掩模优化  光源优化  二次规划  全局最优解   基于随机并行梯度速降算法的光刻机光源与掩模联合优化方法 期刊论文  OAI收割 光学学报, 2014, 卷号: 34, 期号: 9, 页码: 911002 作者:  李兆泽;  李思坤;  王向朝 收藏  |  浏览/下载：60/0  |  提交时间：2016/11/25 光学制造  光刻  光源与掩模联合优化  分辨率增强技术  工艺窗口   基于二次规划的光刻机光源优化方法 期刊论文  OAI收割 光学学报, 2014, 卷号: 34, 期号: 10, 页码: 257 作者:  闫观勇;  李思坤;  王向朝 收藏  |  浏览/下载：36/0  |  提交时间：2016/11/28 光学设计  光刻  分辨率增强  光源掩模优化  光源优化  二次规划  全局最优解   基于随机并行梯度速降算法的光刻机光源与掩模联合优化方法 期刊论文  OAI收割 光学学报, 2014, 卷号: 34, 期号: 9, 页码: 911002 作者:  李兆泽;  李思坤;  王向朝 收藏  |  浏览/下载：33/0  |  提交时间：2016/11/28 光学制造  光刻  光源与掩模联合优化  分辨率增强技术  工艺窗口   基于随机并行梯度速降算法的光刻机光源与掩模联合优化方法 期刊论文  OAI收割 光学学报, 2014, 卷号: 34, 期号: 9, 页码: 911002 作者:  李兆泽;  李思坤;  王向朝 收藏  |  浏览/下载：31/0  |  提交时间：2016/11/28 光学制造  光刻  光源与掩模联合优化  分辨率增强技术  工艺窗口   基于二次规划的光刻机光源优化方法 期刊论文  OAI收割 光学学报, 2014, 卷号: 34, 期号: 10, 页码: 257 作者:  闫观勇;  李思坤;  王向朝 收藏  |  浏览/下载：30/0  |  提交时间：2016/11/28 光学设计  光刻  分辨率增强  光源掩模优化  光源优化  二次规划  全局最优解   基于粒子群算法的光刻机光源掩模投影物镜优化技术 学位论文  OAI收割 作者:  王磊   |  收藏  |  浏览/下载：36/0  |  提交时间：2018/12/26 光刻  optical lithography  分辨率增强技术  resolution enhancement technique  光源掩模投影物镜优化  source mask projector optimization  粒子群算法  particle swarm optimization