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过程工程研究所 [1]
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OAI收割 [2]
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专利 [1]
期刊论文 [1]
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2012 [1]
2004 [1]
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一种缓释型青霉素阴离子插层水滑石材料及其制备和应用
专利
OAI收割
专利类型: 发明, 专利号: CN201110290535.3, 申请日期: 2012-06-20, 公开日期: 2012-06-20
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提交时间:2014/08/04
一种缓释型青霉素阴离子插层水滑石材料
M3+为Al3+
M2+/M3+的摩尔比为1.6~4.5
0.2≤x≤0.4。
其特征在于:所述水滑石材料化学组成通式为[M2+1?xM3+x(OH)2]x+(C16H17N2O4S?)x·nH2O
Cr3+
M2+为Mg2+
Fe3+
Zn2+
V3+
Ni2+
Co3+
Fe2+或Mn2+的二价金属离子
Ga3+或Ti3+的三价金属离子
苯氧甲基青霉素分离技术及其应用研究进展
期刊论文
OAI收割
化工进展, 2004, 期号: 10, 页码: 1081-1085
申淑锋
;
常志东
;
孙兴华
;
胡欣
;
刘会洲
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提交时间:2013/11/07
苯氧甲基青霉素
青霉素V
溶剂萃取
分离
应用