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力学研究所 [1]
采集方式
OAI收割 [1]
内容类型
期刊论文 [1]
发表日期
2004 [1]
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Properties of high k gate dielectric gadolinium oxide deposited on Si(100) by dual ion beam deposition (DIBD)
期刊论文
OAI收割
Journal of Crystal Growth, 2004, 卷号: 270, 期号: 1-2, 页码: 21-29
作者:
Zhou JP
;
Chai CL
;
Yang SY
;
Liu ZK
;
Song SL
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提交时间:2009/08/03
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