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• 光电技术研究所 [1]

采集方式

• OAI收割 [1]

内容类型

• 期刊论文 [1]

发表日期

• 2020 [1]

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浏览/检索结果: 共1条，第1-1条 帮助 条数/页： 5101520253035404550556065707580859095100 排序方式： 请选择题名升序题名降序提交时间升序提交时间降序作者升序作者降序发表日期升序发表日期降序 Simulation of Discharge Characteristics for the Plasma Etching of Large Area SiO2 Substrates 期刊论文  OAI收割 JOURNAL OF RUSSIAN LASER RESEARCH, 2020, 卷号: 41, 期号: 3, 页码: 258-267 作者:  Zhang, Jingwen;  Fan, Bin;  Li, Zhiwei;  Gao, Guohan;  Li, Bincheng   |  收藏  |  浏览/下载：35/0  |  提交时间：2021/05/11 Reactive Ion Etching  Capacitive Coupled Discharge  Fluid Simulation  Discharge Parameter  Large Area Sio2 Substrates  Plasma Radial Uniformity