机构

• 生态环境研究中心 [2]
• 宁波材料技术与工程研... [1]
• 过程工程研究所 [1]
• 半导体研究所 [1]

采集方式

• OAI收割 [5]

内容类型

• 期刊论文 [5]

发表日期

• 2022 [2]
• 2019 [1]
• 2006 [1]
• 2000 [1]

学科主题

• 半导体材料 [1]

筛选

浏览/检索结果: 共5条，第1-5条 帮助 条数/页： 5101520253035404550556065707580859095100 排序方式： 请选择题名升序题名降序提交时间升序提交时间降序作者升序作者降序发表日期升序发表日期降序 A New Type of Quartz Smog Chamber: Design and Characterization 期刊论文  OAI收割 ENVIRONMENTAL SCIENCE & TECHNOLOGY, 2022, 卷号: 56, 期号: 4, 页码: 2181-2190 作者:  Ma, Wei;  Liu, Yongchun;  Zhang, Yusheng;  Feng, Zemin;  Zhan, Junlei   |  收藏  |  浏览/下载：28/0  |  提交时间：2022/11/07 SECONDARY ORGANIC AEROSOL  TROPOSPHERIC CHEMISTRY MECHANISM  PHASE CHEMICAL MECHANISMS  GAS-PHASE  ATMOSPHERIC CHEMISTRY  TEMPERATURE-DEPENDENCE  ENVIRONMENTAL CHAMBER  AROMATIC-HYDROCARBONS  SIMULATION CHAMBER  OPTICAL-PROPERTIES   Application of smog chambers in atmospheric process studies 期刊论文  OAI收割 NATIONAL SCIENCE REVIEW, 2022, 卷号: 9, 期号: 2, 页码: nwab103 作者:  Chu, Biwu;  Chen, Tianzeng;  Liu, Yongchun;  Ma, Qingxin;  Mu, Yujing   |  收藏  |  浏览/下载：28/0  |  提交时间：2022/11/07 SECONDARY ORGANIC AEROSOL  PHASE CHEMICAL MECHANISMS  VAPOR WALL LOSS  MCM V3 PART  SIMULATION CHAMBER  SULFURIC-ACID  ENVIRONMENTAL CHAMBER  TROPOSPHERIC DEGRADATION  ANTHROPOGENIC EMISSIONS  HETEROGENEOUS REACTION   Toughening of semi-IPN structured epoxy using a new PEEK-type polymer via in situ azide-alkyne click polymerization 期刊论文  OAI收割 JOURNAL OF APPLIED POLYMER SCIENCE, 2019, 卷号: 136, 期号: 44 作者:  Lee, Jin Seo;  Ko, Na Yeong;  Kwak, Nho Hoon;  Ying, Wu Bin;  Lee, Bumjae   |  收藏  |  浏览/下载：21/0  |  提交时间：2019/12/18 MATRIX RESIN NETWORKS  ENGINEERING THERMOPLASTICS  CHEMICAL-MODIFICATION  ETHER KETONE)  MORPHOLOGY  SULFONE)  PHASE  CYCLOADDITIONS  MECHANISMS  MODIFIER   Construction and analysis of C-H-N phase diagram for diamond chemical vapor deposition by simulation of gas-phase chemistry 期刊论文  OAI收割 Surface & Coatings Technology, 2006, 期号: 18-19, 页码: 5268-5276 作者:  Qi, X. G.;  Chen, Z. S.;  Xu, H. 收藏  |  浏览/下载：23/0  |  提交时间：2014/09/30 diamond  chemical vapor deposition (CVD)  nitrogen  simulation  phase  diagram  OPTICAL-EMISSION SPECTROSCOPY  THIN-FILMS  FIELD-EMISSION  NITROGEN  ADDITION  GROWTH  CVD  MIXTURES  SYSTEM  MECHANISMS  MORPHOLOGY   A surface kinetics model for the growth of Si1-xGex by UHV/CVD using SiH4/CeH4 期刊论文  OAI收割 journal of crystal growth, 2000, 卷号: 218, 期号: 2-4, 页码: 245-249 Yu Z; Li DZ; Cheng BW; Huang CJ; Lei ZL; Yu JZ; Wang QM; Liang JW 收藏  |  浏览/下载：55/0  |  提交时间：2010/08/12 SiGe/Si  epitaxial growth  surface reaction kinetics  UHV/CVD system  CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION  ATOMIC-HYDROGEN  ADSORPTION  SI(100)  SI2H6  SIH4  MECHANISMS  DESORPTION  PHASE  FILMS