机构

• 上海光学精密机械研究... [4]
• 光电技术研究所 [1]
• 上海技术物理研究所 [1]

采集方式

• OAI收割 [6]

内容类型

• 期刊论文 [6]

发表日期

• 2019 [1]
• 2014 [1]
• 2008 [2]
• 2006 [1]
• 2005 [1]

学科主题

• 光学薄膜 [4]

筛选

浏览/检索结果: 共6条，第1-6条 帮助 条数/页： 5101520253035404550556065707580859095100 排序方式： 请选择题名升序题名降序提交时间升序提交时间降序作者升序作者降序发表日期升序发表日期降序 退火温度对Ta2O5/SiO2多层反射膜结构和应力特性的影响 期刊论文  OAI收割 物理学报, 2019, 卷号: 68, 期号: 11, 页码: 166-172 作者:  刘保剑;  段微波;  李大琪;  余德明;  陈刚   |  收藏  |  浏览/下载：349/0  |  提交时间：2019/11/13 光学薄膜  Ta2O5/SiO2多层反射膜  退火  应力特性   光谱法确定离子束溅射Ta_2O_5/SiO_2薄膜的光学常数及其性能 期刊论文  OAI收割 光学学报, 2014, 卷号: 34, 期号: 5, 页码: 306-312 作者:  尚鹏;  熊胜明;  李凌辉;  田东 收藏  |  浏览/下载：32/0  |  提交时间：2016/11/21 薄膜  光学常数  透射光谱  Ta2O5/SiO2   Influence of SiO2 additional layers on the laser induced damage threshold of Ta2O5 films 期刊论文  OAI收割 opt. laser technol., 2008, 卷号: 40, 期号: 3, 页码: 545, 549 Xu Cheng; Li Dawei; 麻健勇; Jin Yunxia; 邵建达; 范正修 收藏  |  浏览/下载：884/177  |  提交时间：2009/09/22 Ta2O5 films  laser induced damage threshold  absorption  SiO2 additional layers   SiO2保护层和退火对Ta2O5薄膜激光损伤阈值影响的对比研究 期刊论文  OAI收割 Chin. Opt. Lett., 2008, 卷号: 6, 期号: 3, 页码: 228, 230 许程; 董宏成; 麻健勇; 晋元霞; 邵建达; 范正修 收藏  |  浏览/下载：1640/222  |  提交时间：2009/09/22 Ta2O5薄膜  SiO2保护层  激光损伤阈值  退火  Electric field intensity (EFI)  Electron beam evaporation  Laser induced damage threshold (LIDT)  Microdefect density  Tantalum oxide films   多脉冲激光作用下光学薄膜损伤的累积效应 期刊论文  OAI收割 光子学报, 2006, 卷号: 35, 期号: 6, 页码: 859, 862 王涛; 赵元安; 黄建兵; 贺洪波; 邵建达; 范正修 收藏  |  浏览/下载：917/128  |  提交时间：2009/09/22 Ta2O5／SiO2介质反射膜  累积效应  单脉冲  多脉冲  损伤阈值   重复率激光作用下光学薄膜损伤的累积效应 期刊论文  OAI收割 强激光与粒子束, 2005, 卷号: 17, 期号: s1, 页码: 171, 174 王涛; 赵元安; 黄建兵; 贺洪波; 劭建达; 范正修 收藏  |  浏览/下载：698/112  |  提交时间：2009/09/22 Ta2O5／SiO2介质反射膜  累积效应  重复率  缺陷