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机构
光电技术研究所 [1]
上海技术物理研究所 [1]
上海光学精密机械研究... [1]
采集方式
OAI收割 [3]
内容类型
期刊论文 [3]
发表日期
2019 [1]
2014 [1]
2008 [1]
学科主题
光学薄膜 [1]
筛选
浏览/检索结果:
共3条,第1-3条
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退火温度对Ta2O5/SiO2多层反射膜结构和应力特性的影响
期刊论文
OAI收割
物理学报, 2019, 卷号: 68, 期号: 11, 页码: 166-172
作者:
刘保剑
;
段微波
;
李大琪
;
余德明
;
陈刚
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浏览/下载:345/0
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提交时间:2019/11/13
光学薄膜
Ta2O5/SiO2多层反射膜
退火
应力特性
光谱法确定离子束溅射Ta_2O_5/SiO_2薄膜的光学常数及其性能
期刊论文
OAI收割
光学学报, 2014, 卷号: 34, 期号: 5, 页码: 306-312
作者:
尚鹏
;
熊胜明
;
李凌辉
;
田东
收藏
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浏览/下载:31/0
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提交时间:2016/11/21
薄膜
光学常数
透射光谱
Ta2O5/SiO2
SiO2保护层和退火对Ta2O5薄膜激光损伤阈值影响的对比研究
期刊论文
OAI收割
Chin. Opt. Lett., 2008, 卷号: 6, 期号: 3, 页码: 228, 230
许程
;
董宏成
;
麻健勇
;
晋元霞
;
邵建达
;
范正修
收藏
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浏览/下载:1640/222
  |  
提交时间:2009/09/22
Ta2O5薄膜
SiO2保护层
激光损伤阈值
退火
Electric field intensity (EFI)
Electron beam evaporation
Laser induced damage threshold (LIDT)
Microdefect density
Tantalum oxide films