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机构
半导体研究所 [2]
近代物理研究所 [1]
采集方式
OAI收割 [2]
iSwitch采集 [1]
内容类型
期刊论文 [3]
发表日期
2002 [1]
2000 [2]
学科主题
半导体材料 [1]
筛选
浏览/检索结果:
共3条,第1-3条
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The first prototype of the HIRFL-CSR UHV system
期刊论文
OAI收割
VACUUM, 2002, 卷号: 68, 期号: 10, 页码: 11-18
作者:
Meng, J
;
Yang, XT
;
Zhang, JH
;
Wu, HM
;
Hou, SJ
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提交时间:2010/10/29
heavy ion accelerator
UHV system
system design
A surface kinetics model for the growth of si1-xgex by uhv/cvd using sih4/ceh4
期刊论文
iSwitch采集
Journal of crystal growth, 2000, 卷号: 218, 期号: 2-4, 页码: 245-249
作者:
Yu, Z
;
Li, DZ
;
Cheng, BW
;
Huang, CJ
;
Lei, ZL
收藏
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浏览/下载:23/0
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提交时间:2019/05/12
Sige/si
Epitaxial growth
Surface reaction kinetics
Uhv/cvd system
A surface kinetics model for the growth of Si1-xGex by UHV/CVD using SiH4/CeH4
期刊论文
OAI收割
journal of crystal growth, 2000, 卷号: 218, 期号: 2-4, 页码: 245-249
Yu Z
;
Li DZ
;
Cheng BW
;
Huang CJ
;
Lei ZL
;
Yu JZ
;
Wang QM
;
Liang JW
收藏
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浏览/下载:55/0
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提交时间:2010/08/12
SiGe/Si
epitaxial growth
surface reaction kinetics
UHV/CVD system
CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION
ATOMIC-HYDROGEN
ADSORPTION
SI(100)
SI2H6
SIH4
MECHANISMS
DESORPTION
PHASE
FILMS