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• 上海光学精密机械研究... [2]

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• 期刊论文 [2]

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• 2014 [2]

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浏览/检索结果: 共2条，第1-2条 帮助 条数/页： 5101520253035404550556065707580859095100 排序方式： 请选择题名升序题名降序提交时间升序提交时间降序作者升序作者降序发表日期升序发表日期降序 Fast model for mask spectrum simulation and analysis of mask shadowing effects in extreme ultraviolet lithography 期刊论文  OAI收割 j. micro-nanolithogr. mems moems, 2014, 卷号: 13, 期号: 3, 页码: 33007 作者:  Liu, Xiaolei;  Wang, Xiangzhao;  Li, Sikun;  Yan, Guanyong;  Erdmann, Andreas 收藏  |  浏览/下载：26/0  |  提交时间：2016/11/28 extreme ultraviolet lithography  mask model  shadowing effect  pattern shift  critical dimension bias   Fast model for mask spectrum simulation and analysis of mask shadowing effects in extreme ultraviolet lithography 期刊论文  OAI收割 j. micro-nanolithogr. mems moems, 2014, 卷号: 13, 期号: 3, 页码: 33007 作者:  Liu, Xiaolei;  Wang, Xiangzhao;  Li, Sikun;  Yan, Guanyong;  Erdmann, Andreas 收藏  |  浏览/下载：20/0  |  提交时间：2016/11/28 extreme ultraviolet lithography  mask model  shadowing effect  pattern shift  critical dimension bias