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	CMP过程Run-to-Run预测控制方法研究学位论文 OAI收割博士, 中国科学院沈阳自动化研究所: 中国科学院沈阳自动化研究所, 2012 王亮收藏 \| 浏览/下载：329/0 \| 提交时间：2012/07/27 半导体制造化学机械研磨 Run-to-Run控制预测控制过程控制
	基于LS-SVM模型和扰动估计的光刻过程智能R2R预测控制期刊论文 OAI收割计算机测量与控制, 2012, 卷号: 20, 期号: 8, 页码: 2124-2126, 2142 作者: 胡静涛收藏 \| 浏览/下载：17/0 \| 提交时间：2012/12/28 光刻过程最小二乘支持向量机扰动估计 run-to-run控制预测控制克隆选择
	基于灰色模型的CMP过程免疫预测R2R控制期刊论文 OAI收割仪器仪表学报, 2012, 卷号: 33, 期号: 2, 页码: 306-314 作者: 王亮; 胡静涛收藏 \| 浏览/下载：41/0 \| 提交时间：2012/10/24 化学机械研磨灰色模型克隆选择预测控制 Run-to-Run控制