机构

• 上海微系统与信息技术... [1]

采集方式

• OAI收割 [1]

内容类型

• 期刊论文 [1]

发表日期

• 2006 [1]

学科主题

• Physics, A... [1]

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浏览/检索结果: 共1条，第1-1条 帮助 限定条件 学科主题：Physics, Applied     条数/页： 5101520253035404550556065707580859095100 排序方式： 请选择提交时间升序提交时间降序发表日期升序发表日期降序题名升序题名降序作者升序作者降序 Characteristics of HfxSiyO films grown on Si0.8Ge0.2 layer by electron-beam evaporation 期刊论文  OAI收割 APPLIED PHYSICS LETTERS, 2006, 卷号: 88, 期号: 12, 页码: 122906-122906 Cheng, XH; Song, ZR; Yu, YY; Yang, WW; Shen, DS 收藏  |  浏览/下载：17/0  |  提交时间：2012/03/24 GATE DIELECTRICS  HFO2  OXIDATION  SILICON