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  • 2017 [1]
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Low-stress and high-reflectance Mo/Si multilayers for extreme ultraviolet lithography by magnetron sputtering deposition with bias assistance 期刊论文  OAI收割
Applied Optics, 2017, 卷号: 56, 期号: 26
作者:  Yu, B.;  C. S. Jin;  S. Yao;  C. Li;  Y. Liu
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