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Comprehensive understanding of the effect of electric dipole at high-k/SiO2 interface on the flatband voltage shift in metal-oxide-semiconductor device 外文期刊  OAI收割
2010
作者:  Han, K;  Wang, WW;  Ma, XL;  Chen, DP;  Zhang, J
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Study of keV radiation properties of Mo and Ti X-pinch plasma sources using a pinhole transmission grating spectrometer 外文期刊  OAI收割
2010
作者:  Yang, LB;  Huang, XB;  Xie, WP;  Deng, JJ;  Li, J
  |  收藏  |  浏览/下载：7/0  |  提交时间：2010/11/26
Gate oxide punching thru mechanism in plasma dry etching 外文期刊  OAI收割
2008
作者:  Zhang, QZ;  Xie, CQ;  Liu, M;  Li, B;  Chen, BQ
  |  收藏  |  浏览/下载：10/0  |  提交时间：2010/11/26