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一种高光谱仿真中的辐射影响计算方法

文献类型:专利

作者吕进锋; 李波; 孙士洁; 赵怀慈; 刘明第
发表日期2018-01-05
著作权人中国科学院沈阳自动化研究所
国家中国
文献子类发明授权
产权排序1
其他题名High-spectrum simulation radiation influence calculating method
英文摘要本发明涉及计算机仿真领域,具体的说是一种高光谱仿真中的辐射影响计算方法。本发明包括以下步骤:确定场景中与辐射相关的参数;根据目标自身表面温度计算目标的自身辐射;根据太阳参数和目标表面反射率计算目标对太阳辐射的反射;计算目标对相邻建筑自身辐射的反射;计算目标对相邻建筑对太阳辐射的反射:依据太阳参数和大气环境参数计算目标的辐射影响。本发明能够有效地处理高光谱仿真中相邻物体对于目标的辐射影响,提高了仿真逼真度。
公开日期2019-10-11
申请日期2016-06-27
语种中文
状态有权
源URL[http://ir.sia.cn/handle/173321/25819]  
专题沈阳自动化研究所_光电信息技术研究室
作者单位中国科学院沈阳自动化研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
吕进锋,李波,孙士洁,等. 一种高光谱仿真中的辐射影响计算方法. 2018-01-05.

入库方式: OAI收割

来源:沈阳自动化研究所

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