一种高光谱仿真中的辐射影响计算方法
文献类型:专利
作者 | 吕进锋![]() ![]() ![]() |
发表日期 | 2018-01-05 |
著作权人 | 中国科学院沈阳自动化研究所 |
国家 | 中国 |
文献子类 | 发明授权 |
产权排序 | 1 |
其他题名 | High-spectrum simulation radiation influence calculating method |
英文摘要 | 本发明涉及计算机仿真领域,具体的说是一种高光谱仿真中的辐射影响计算方法。本发明包括以下步骤:确定场景中与辐射相关的参数;根据目标自身表面温度计算目标的自身辐射;根据太阳参数和目标表面反射率计算目标对太阳辐射的反射;计算目标对相邻建筑自身辐射的反射;计算目标对相邻建筑对太阳辐射的反射:依据太阳参数和大气环境参数计算目标的辐射影响。本发明能够有效地处理高光谱仿真中相邻物体对于目标的辐射影响,提高了仿真逼真度。 |
公开日期 | 2019-10-11 |
申请日期 | 2016-06-27 |
语种 | 中文 |
状态 | 有权 |
源URL | [http://ir.sia.cn/handle/173321/25819] ![]() |
专题 | 沈阳自动化研究所_光电信息技术研究室 |
作者单位 | 中国科学院沈阳自动化研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 吕进锋,李波,孙士洁,等. 一种高光谱仿真中的辐射影响计算方法. 2018-01-05. |
入库方式: OAI收割
来源:沈阳自动化研究所
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