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栅极触发PDSOI CMOS闩锁效应研究

文献类型:期刊论文

作者曾传滨; 韩郑生; 李多力; 海潮和
刊名半导体技术
出版日期2009
卷号34期号:11页码:5,1135-1139
关键词金属氧化物半导体 绝缘体上硅 闩锁 敏感区 栅极触发 临界下降沿
ISSN号1003-353X
其他题名Study on the Gate Triggered PDSOI CMOS Latch Effect
英文摘要

测试了不同静态栅极触发电压(输入电压)下诱发CMOS闩锁效应需要的电源电压和输出电压(即将闩锁时的输出电压),发现静态栅极触发CMOS闩锁效应存在触发电流限制和维持电压限制两种闩锁触发限制模式,并且此栅极触发电压-输出电压曲线是动态栅极触发CMOS闩锁效应敏感区域与非敏感区域的分界线。通过改变输出端负载电容,测试出了不同电源电压下CMOS闩锁效应需要的栅极触发电压临界下降沿,并拟合出了0 pF负载电容时的临界下降沿,最终得出了PDSOI CMOS电路存在的CMOS闩锁效应很难通过电学方法测试出来的结论。[著者文摘]

语种中文
公开日期2010-06-01
源URL[http://10.10.10.126/handle/311049/2116]  
专题微电子研究所_硅器件与集成研发中心
作者单位中国科学院微电子研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
曾传滨,韩郑生,李多力,等. 栅极触发PDSOI CMOS闩锁效应研究[J]. 半导体技术,2009,34(11):5,1135-1139.
APA 曾传滨,韩郑生,李多力,&海潮和.(2009).栅极触发PDSOI CMOS闩锁效应研究.半导体技术,34(11),5,1135-1139.
MLA 曾传滨,et al."栅极触发PDSOI CMOS闩锁效应研究".半导体技术 34.11(2009):5,1135-1139.

入库方式: OAI收割

来源:微电子研究所

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