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MOS器件的建模方法

文献类型:专利

作者梅博; 罗家俊; 卜建辉; 毕津顺; 韩郑生
发表日期2015-02-18
专利号CN201210123082.X
著作权人中国科学院微电子研究所
国家中国
文献子类发明专利
英文摘要

本发明提供一种MOS器件的建模方法,包括:建立定义与STI相关的尺寸的一组参数,其中至少一个参数定义了STI的宽度或者栅宽方向上到STI的距离;建立所述一组参数对阈值电压和迁移率的影响的解析模型,所述解析模型包含待确定的系数;对使用特定工艺制作的不同尺寸的MOS器件进行特性测试,获得测试数据;根据所述测试数据确定所述解析模型的系数。采用本发明提供的模拟器件的方法,所得到的模拟特性数值与器件的实测数值更加接近,准确性更高。

公开日期2012-08-22
申请日期2012-04-24
语种中文
源URL[http://159.226.55.106/handle/172511/15521]  
专题微电子研究所_硅器件与集成研发中心
作者单位中国科学院微电子研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
梅博,罗家俊,卜建辉,等. MOS器件的建模方法. CN201210123082.X. 2015-02-18.

入库方式: OAI收割

来源:微电子研究所

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