MOS器件的建模方法
文献类型:专利
作者 | 梅博![]() ![]() ![]() ![]() ![]() |
发表日期 | 2015-02-18 |
专利号 | CN201210123082.X |
著作权人 | 中国科学院微电子研究所 |
国家 | 中国 |
文献子类 | 发明专利 |
英文摘要 | 本发明提供一种MOS器件的建模方法,包括:建立定义与STI相关的尺寸的一组参数,其中至少一个参数定义了STI的宽度或者栅宽方向上到STI的距离;建立所述一组参数对阈值电压和迁移率的影响的解析模型,所述解析模型包含待确定的系数;对使用特定工艺制作的不同尺寸的MOS器件进行特性测试,获得测试数据;根据所述测试数据确定所述解析模型的系数。采用本发明提供的模拟器件的方法,所得到的模拟特性数值与器件的实测数值更加接近,准确性更高。 |
公开日期 | 2012-08-22 |
申请日期 | 2012-04-24 |
语种 | 中文 |
源URL | [http://159.226.55.106/handle/172511/15521] ![]() |
专题 | 微电子研究所_硅器件与集成研发中心 |
作者单位 | 中国科学院微电子研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 梅博,罗家俊,卜建辉,等. MOS器件的建模方法. CN201210123082.X. 2015-02-18. |
入库方式: OAI收割
来源:微电子研究所
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