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一种沟槽型IGBT版图结构

文献类型:专利

作者朱阳军; 赵佳; 田晓丽; 左小珍
发表日期2012-12-07
著作权人 中国科学院微电子研究所 ; 江苏物联网研究发展中心 ; 江苏中科君芯科技有限公司
国家中国
文献子类实用新型
英文摘要本实用新型公开了一种沟槽型IGBT版图结构,属于半导体功率器件的技术领域。该结构包括有源区内的任意相邻两个元胞区域内的元胞排列均互相垂直,所述元胞的栅极通过多晶硅连接。本实用新型由于四个不同区域内元胞的排列方向不同,即相邻两个区域内的元胞排列方式是垂直的,因此在流片过程中产生应力的方向也是垂直的。在多个重复单元排列的情况下便可减少单一方向应力的集中,从而减轻圆片翘曲的可能。
状态公开
源URL[http://159.226.55.106/handle/172511/15881]  
专题微电子研究所_硅器件与集成研发中心
推荐引用方式
GB/T 7714
朱阳军,赵佳,田晓丽,等. 一种沟槽型IGBT版图结构. 2012-12-07.

入库方式: OAI收割

来源:微电子研究所

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