一种抗单粒子能力加固的槽型栅功率器件
文献类型:专利
作者 | 刘海南![]() ![]() ![]() ![]() ![]() |
发表日期 | 2018-10-19 |
专利号 | CN201721854675.8 |
著作权人 | 中国科学院微电子研究所 |
国家 | 中国 |
文献子类 | 实用新型 |
英文摘要 | 本申请提供的一种抗单粒子能力加固的槽型栅功率器件,涉及半导体器件领域,包括:N+源极,Pwell区域,所述Pwell区域位于所述N+源极的下方;N漂移区,所述N漂移区位于所述Pwell区域的下方;其中,所述N+源极、Pwell区域、N漂移区构成寄生NPN晶体管结构;其中,所述器件还包括:刻槽结构,所述刻槽结构设置在所述N+源极的下方,且在所述刻槽结构的下方区域进行横向扩展,所述横向扩展使得当粒子碰撞产生的空穴流向N+源极时,所述空穴被所述横向扩展收集。达到了在空穴流动路径上提前抽取空穴载流子,大幅度减少在寄生电阻区域流过的空穴电流,从而有效的压制了寄生晶体管的开启,增强了器件抗单粒子能力的可靠性的技术效果。 |
申请日期 | 2017-12-26 |
语种 | 中文 |
源URL | [http://159.226.55.107/handle/172511/18594] ![]() |
专题 | 微电子研究所_硅器件与集成研发中心 |
作者单位 | 中国科学院微电子研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 刘海南,卜建辉,陆江,等. 一种抗单粒子能力加固的槽型栅功率器件. CN201721854675.8. 2018-10-19. |
入库方式: OAI收割
来源:微电子研究所
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