一种SOIMOSFET器件的建模方法
文献类型:专利
作者 | 卜建辉![]() ![]() ![]() |
发表日期 | 2018-11-02 |
专利号 | CN201510303560.9 |
著作权人 | 中国科学院微电子研究所 |
国家 | 中国 |
文献子类 | 发明专利 |
英文摘要 | 本发明提供了一种SOI MOSFET器件的建模方法,包括:a)建立总体模型,该总体模型包括所述初级器件模型、模拟源体PN结的第一模型和模拟漏体PN结的第二模型;其中,所述初级器件模型中的器件为模拟源漏注入到底的SOI MOSFET;b)对初级器件模型进行参数提取;c)对第一、第二模型分别进行参数提取。本发明提供的建模方法考虑源漏注入不到底的SOI MOSFET器件中源体结以及漏体结电容对于器件性能的影响,提高了模型的精确度,能够有效的运用于对器件的仿真设计。 |
公开日期 | 2015-09-30 |
申请日期 | 2015-06-04 |
语种 | 中文 |
源URL | [http://159.226.55.107/handle/172511/18597] ![]() |
专题 | 微电子研究所_硅器件与集成研发中心 |
作者单位 | 中国科学院微电子研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 卜建辉,罗家俊,韩郑生. 一种SOIMOSFET器件的建模方法. CN201510303560.9. 2018-11-02. |
入库方式: OAI收割
来源:微电子研究所
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