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一种带FS层的PT型功率器件的制作方法

文献类型:专利

作者朱阳军; 吴振兴; 田晓丽; 卢烁今; 胡爱斌
发表日期2018-01-30
专利号CN201210543954.8
著作权人中国科学院微电子研究所
国家中国
文献子类发明专利
英文摘要

本发明涉及制作方法技术领域,公开了一种带FS层的PT型功率器件的制作方法包括:步骤一:制备衬底;步骤二:从衬底外延出第一N型FS层;步骤三:对第一N型FS层进行局域寿命控制;步骤四:重复步骤二和步骤三,从第一N型FS层外延出多个N型FS层,且N型FS层的掺杂浓度逐层下降,局域寿命控制注入的剂量也逐层下降,使N型FS层的缺陷浓度也逐层下降;步骤五:在N型FS层上外延出N漂移区;步骤六:制备PT型功率器件的正面结构,再对PT型功率器件的背面减薄,并与金属层形成欧姆接触。本发明经过多次外延N型FS层形成一个浓度渐变的厚FS层区域,成功避免了理想FS型功率器件的超薄片制备过程,大大降低了碎片等风险。

公开日期2014-06-18
申请日期2012-12-14
语种中文
源URL[http://159.226.55.107/handle/172511/18655]  
专题微电子研究所_高频高压器件与集成研发中心
作者单位中国科学院微电子研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
朱阳军,吴振兴,田晓丽,等. 一种带FS层的PT型功率器件的制作方法. CN201210543954.8. 2018-01-30.

入库方式: OAI收割

来源:微电子研究所

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