一种带FS层的PT型功率器件的制作方法
文献类型:专利
作者 | 朱阳军![]() ![]() ![]() |
发表日期 | 2018-01-30 |
专利号 | CN201210543954.8 |
著作权人 | 中国科学院微电子研究所 |
国家 | 中国 |
文献子类 | 发明专利 |
英文摘要 | 本发明涉及制作方法技术领域,公开了一种带FS层的PT型功率器件的制作方法包括:步骤一:制备衬底;步骤二:从衬底外延出第一N型FS层;步骤三:对第一N型FS层进行局域寿命控制;步骤四:重复步骤二和步骤三,从第一N型FS层外延出多个N型FS层,且N型FS层的掺杂浓度逐层下降,局域寿命控制注入的剂量也逐层下降,使N型FS层的缺陷浓度也逐层下降;步骤五:在N型FS层上外延出N漂移区;步骤六:制备PT型功率器件的正面结构,再对PT型功率器件的背面减薄,并与金属层形成欧姆接触。本发明经过多次外延N型FS层形成一个浓度渐变的厚FS层区域,成功避免了理想FS型功率器件的超薄片制备过程,大大降低了碎片等风险。 |
公开日期 | 2014-06-18 |
申请日期 | 2012-12-14 |
语种 | 中文 |
源URL | [http://159.226.55.107/handle/172511/18655] ![]() |
专题 | 微电子研究所_高频高压器件与集成研发中心 |
作者单位 | 中国科学院微电子研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 朱阳军,吴振兴,田晓丽,等. 一种带FS层的PT型功率器件的制作方法. CN201210543954.8. 2018-01-30. |
入库方式: OAI收割
来源:微电子研究所
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