磁控溅射法制备低电阻率Ta薄膜研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 王文东; 邵花; 刘训春 |
| 刊名 | 功能材料
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| 出版日期 | 2013-09-30 |
| 公开日期 | 2014-10-22 |
| 源URL | [http://10.10.10.126/handle/311049/11864]  |
| 专题 | 微电子研究所_微电子仪器设备研发中心 |
| 通讯作者 | 王文东 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王文东,邵花,刘训春. 磁控溅射法制备低电阻率Ta薄膜研究[J]. 功能材料,2013. |
| APA | 王文东,邵花,&刘训春.(2013).磁控溅射法制备低电阻率Ta薄膜研究.功能材料. |
| MLA | 王文东,et al."磁控溅射法制备低电阻率Ta薄膜研究".功能材料 (2013). |
入库方式： OAI收割
来源：微电子研究所
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