Influence of annealing temperature on passivation performanceof thermal atomic layer deposition Al2O3 films
文献类型：期刊论文
| 作者 | Zhang X(张祥); Li CB(李超波); Liu BW(刘邦武) |
| 刊名 | 中国物理B
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| 出版日期 | 2013-07-03 |
| 公开日期 | 2014-10-22 |
| 源URL | [http://10.10.10.126/handle/311049/11880]  |
| 专题 | 微电子研究所_微电子仪器设备研发中心 |
| 通讯作者 | Liu BW(刘邦武) |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Zhang X,Li CB,Liu BW. Influence of annealing temperature on passivation performanceof thermal atomic layer deposition Al2O3 films[J]. 中国物理B,2013. |
| APA | 张祥,李超波,&刘邦武.(2013).Influence of annealing temperature on passivation performanceof thermal atomic layer deposition Al2O3 films.中国物理B. |
| MLA | 张祥,et al."Influence of annealing temperature on passivation performanceof thermal atomic layer deposition Al2O3 films".中国物理B (2013). |
入库方式： OAI收割
来源：微电子研究所
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