Microwave annealing effects on the ZnO films deposited by Atomic Layer Deposition
文献类型：期刊论文
| 作者 | Yu MY(于明岩); Guo XL(郭晓龙); Dong YB(董亚斌); Zhao SR(赵士瑞); Xia Y(夏洋); Jing YP(景玉鹏); Xu XW(徐昕伟) |
| 刊名 | 半导体学报
 |
| 出版日期 | 2014-11-06 |
| 公开日期 | 2015-04-22 |
| 源URL | [http://10.10.10.126/handle/311049/12660]  |
| 专题 | 微电子研究所_微电子仪器设备研发中心 |
| 通讯作者 | Jing YP(景玉鹏) |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Yu MY,Guo XL,Dong YB,et al. Microwave annealing effects on the ZnO films deposited by Atomic Layer Deposition[J]. 半导体学报,2014. |
| APA | 于明岩.,郭晓龙.,董亚斌.,赵士瑞.,夏洋.,...&徐昕伟.(2014).Microwave annealing effects on the ZnO films deposited by Atomic Layer Deposition.半导体学报. |
| MLA | 于明岩,et al."Microwave annealing effects on the ZnO films deposited by Atomic Layer Deposition".半导体学报 (2014). |
入库方式： OAI收割
来源：微电子研究所
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。