中国科学院机构知识库网格
Chinese Academy of Sciences Institutional Repositories Grid
The study of defect removal etching of black silicon

文献类型:期刊论文

作者Liu JH(刘金虎); Liu BW(刘邦武); Xiao G(肖高)
刊名Materials Science in Semiconductor Processing
出版日期2014-11-07
公开日期2015-04-22
源URL[http://10.10.10.126/handle/311049/12662]  
专题微电子研究所_微电子仪器设备研发中心
通讯作者Liu BW(刘邦武)
推荐引用方式
GB/T 7714
Liu JH,Liu BW,Xiao G. The study of defect removal etching of black silicon[J]. Materials Science in Semiconductor Processing,2014.
APA 刘金虎,刘邦武,&肖高.(2014).The study of defect removal etching of black silicon.Materials Science in Semiconductor Processing.
MLA 刘金虎,et al."The study of defect removal etching of black silicon".Materials Science in Semiconductor Processing (2014).

入库方式: OAI收割

来源:微电子研究所

浏览0
下载0
收藏0
其他版本

除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。