一种PECVD系统
文献类型:专利
作者 | Xia Y(夏洋)![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() |
发表日期 | 2014-06-18 |
专利号 | CN203653697U |
著作权人 | 中国科学院微电子研究所 |
国家 | 中国 |
文献子类 | 实用新型 |
英文摘要 | 本实用新型涉及一种PECVD系统,包括沉积腔室、前驱体输入气路、反应气体输入气路,所述前驱体输入气路和反应气体输入气路都与沉积腔室连接,所述前驱体输入气路和所述反应气体输入气路上都具有控制气体输入的普通阀,所述前驱体输入气路和/或所述反应气体输入气路的普通阀上通过管道并连脉冲阀。实现了PECVD方法和脉冲流量PECVD方法的结合,也实现了制备速度可控、快速沉积较高质量的薄膜。 |
申请日期 | 2013-12-31 |
语种 | 中文 |
源URL | [http://10.10.10.126/handle/311049/13102] ![]() |
专题 | 微电子研究所_微电子仪器设备研发中心 |
作者单位 | 中国科学院微电子研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | Xia Y(夏洋),Liu J(刘键),Liu J(刘杰),等. 一种PECVD系统. CN203653697U. 2014-06-18. |
入库方式: OAI收割
来源:微电子研究所
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。