一种用于原子层沉积设备的气体分配器
文献类型：专利
| 作者 | 张艳清; 夏洋; 李超波; 万军; 吕树玲; 陈波; 石莎莉; 李楠 |
| 发表日期 | 2012-01-05 |
| 著作权人 | 中国科学院微电子研究所 |
| 国家 | 中国 |
| 文献子类 | 发明 |
| 英文摘要 | 本发明涉及原子层沉积设备技术领域，具体涉及一种用于原子层沉积设备的气体分配器。所述用于原子层沉积设备的气体分配器，所述气体分配器设置在原子层沉积设备的反应腔室内，位于所述反应腔室内基片台的上方；所述气体分配器为环型或U型的气路管道，所述气路管道上设有一个进气口和若干个出气口；所述进气口与所述反应腔室的进气管道相连通，所述出气口均匀分布在所述气路管道的内外两侧，所述出气口的出气方向与垂直方向形成倾斜角度。本发明具备结构简单，易于加工，成本低廉的优点，在满足ALD沉积方式的同时，能够实现前躯体完整地覆盖样品表面，可以很好地提高薄膜均匀性。 |
| 状态 | 公开 |
| 源URL | [http://159.226.55.106/handle/172511/15545]  |
| 专题 | 微电子研究所_微电子仪器设备研发中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 张艳清,夏洋,李超波,等. 一种用于原子层沉积设备的气体分配器. 2012-01-05. |
入库方式： OAI收割
来源：微电子研究所
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