一种气体分配器及原子层沉积设备
文献类型：专利
| 作者 | 张艳清; 夏洋; 李超波; 万军; 吕树玲; 陈波; 石莎莉; 李楠 |
| 发表日期 | 2012-01-05 |
| 著作权人 | 中国科学院微电子研究所 |
| 国家 | 中国 |
| 文献子类 | 发明 |
| 英文摘要 | 本发明涉及原子层沉积设备技术领域，具体涉及一种气体分配器及包括该气体分配器的原子层沉积设备。所述气体分配器，包括进气管道、过渡管道和配气盘，所述配气盘固定设置在所述过渡管道的出气口，所述过渡管道的进气口与所述进气管道连接，所述配气盘上有出气孔，所述配气盘的外表面设有倾斜设置的气体导流板。本发明能够实现前躯体完整地覆盖样品表面，而且由于气体具有水平方向的分速度，使覆盖整个基片变得更为快速，很好地提高薄膜均匀性，有效地降低了成本。 |
| 状态 | 公开 |
| 源URL | [http://159.226.55.106/handle/172511/15546]  |
| 专题 | 微电子研究所_微电子仪器设备研发中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 张艳清,夏洋,李超波,等. 一种气体分配器及原子层沉积设备. 2012-01-05. |
入库方式： OAI收割
来源：微电子研究所
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