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一种半导体设备中黑色Y2O3陶瓷涂层制造方法

文献类型:专利

作者刘邦武; 邵花; 王文东; 李勇滔; 夏洋
发表日期2011-12-02
著作权人中国科学院微电子研究所
国家中国
文献子类发明
英文摘要 本发明涉及Y2O3陶瓷涂层制造技术领域,具体涉及一种半导体设备中黑色Y2O3陶瓷涂层制造方法。所述半导体设备中黑色Y2O3陶瓷涂层制造方法,包括如下步骤:步骤(1),选择纯度大于99.95%的Y2O3粉末;步骤(2),对待喷涂的基材表面进行预处理;步骤(3),选择Ar和H2气体为离子气体,通过等离子体喷涂设备在所述基材表面进行等离子喷涂,并且在所述进行等离子喷涂时向等离子焰流中通入H2,制备出黑色Y2O3陶瓷涂层。本发明以Ar/H2为喷涂气体并在等离子焰流中加入H2,使熔融的Y2O3粉末与之发生还原反应,使Y2O3粉末变黑。
状态公开
源URL[http://159.226.55.106/handle/172511/15561]  
专题微电子研究所_微电子仪器设备研发中心
推荐引用方式
GB/T 7714
刘邦武,邵花,王文东,等. 一种半导体设备中黑色Y2O3陶瓷涂层制造方法. 2011-12-02.

入库方式: OAI收割

来源:微电子研究所

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