一种等离子氢处理制备黑色Y2O3陶瓷涂层的方法
文献类型：专利
| 作者 | 王文东; 邵花; 刘邦武; 夏洋; 李勇滔 |
| 发表日期 | 2011-12-02 |
| 著作权人 | 中国科学院微电子研究所 |
| 国家 | 中国 |
| 文献子类 | 发明 |
| 英文摘要 | 本发明涉及Y2O3陶瓷涂层制造技术领域，具体涉及一种等离子氢处理制备黑色Y2O3陶瓷涂层的方法。所述方法，包括如下步骤：步骤(1)，选择纯度大于99.95％的Y2O3粉末；步骤(2)，对待喷涂的基材表面进行预处理；步骤(3)，通过等离子体喷涂设备在所述基材表面进行等离子喷涂，制备出Y2O3涂层；步骤(4)，将步骤(4)中制备出的Y2O3涂层进行等离子体氢处理，即可得到黑色的Y2O3涂层。本发明利用等离子体氢还原法制备的黑色Y2O3涂层，具有耐刻蚀、耐脏的性能，且成本较低。 |
| 状态 | 公开 |
| 源URL | [http://159.226.55.106/handle/172511/15565]  |
| 专题 | 微电子研究所_微电子仪器设备研发中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王文东,邵花,刘邦武,等. 一种等离子氢处理制备黑色Y2O3陶瓷涂层的方法. 2011-12-02. |
入库方式： OAI收割
来源：微电子研究所
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