一种等离子喷涂制备碳化硼涂层的方法
文献类型：专利
| 作者 | 王文东; 黄春; 闫坤坤; 夏洋 |
| 发表日期 | 2012-01-05 |
| 著作权人 | 中国科学院微电子研究所 |
| 国家 | 中国 |
| 文献子类 | 发明 |
| 英文摘要 | 本发明提供了一种等离子喷涂制备碳化硼涂层的方法，包括如下步骤：步骤(1)，将碳化硼粉和碳粉均匀混合，将混合后的粉末送入等离子体喷涂设备；步骤(2)，对被喷涂的基材表面进行预处理；步骤(3)，通过所述等离子体喷涂设备在所述基材表面进行等离子喷涂，制备出碳化硼涂层。本发明使用碳掺杂B4C粉等离子喷涂方法制备涂层，当射流喷出后，石墨粉不仅能优先和氧气发生反应，避免B4C的氧化，而且碳的加入，抑制了B4C的高温分解，可降低甚至防止B4C在高温下的C流失，获得性能良好的B4C涂层，同时，碳掺杂不会在涂层中引入杂质元素，保证了涂层质量，且石墨粉的加入可增加粉的流动性，更有利于喷涂。 |
| 源URL | [http://159.226.55.106/handle/172511/16529]  |
| 专题 | 微电子研究所_微电子仪器设备研发中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王文东,黄春,闫坤坤,等. 一种等离子喷涂制备碳化硼涂层的方法. 2012-01-05. |
入库方式： OAI收割
来源：微电子研究所
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。