脉冲激光沉积技术对硅衬底上超导铌金属薄膜的制备及特性研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 夏洋; 卢维尔; 彭明娣; 李楠; 赵丽莉; 王桐 |
| 刊名 | 材料导报
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| 出版日期 | 2018-05-01 |
| 文献子类 | 期刊论文 |
| 源URL | [http://159.226.55.107/handle/172511/19045]  |
| 专题 | 微电子研究所_微电子仪器设备研发中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 夏洋,卢维尔,彭明娣,等. 脉冲激光沉积技术对硅衬底上超导铌金属薄膜的制备及特性研究[J]. 材料导报,2018. |
| APA | 夏洋,卢维尔,彭明娣,李楠,赵丽莉,&王桐.(2018).脉冲激光沉积技术对硅衬底上超导铌金属薄膜的制备及特性研究.材料导报. |
| MLA | 夏洋,et al."脉冲激光沉积技术对硅衬底上超导铌金属薄膜的制备及特性研究".材料导报 (2018). |
入库方式： OAI收割
来源：微电子研究所
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