Atomic layer deposition assisted pattern transfer technology for ultra-thin block copolymer films
文献类型：期刊论文
| 作者 | Chen WH(陈文辉); Luo J(罗军) ; Meng LK(孟令款); Li JJ(李俊杰); Xiang JJ(项金娟); Li JF(李俊峰); Wang WW(王文武); Chen DP(陈大鹏); Ye TC(叶甜春)
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| 刊名 | Thin Solid Films
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| 出版日期 | 2016-08-31 |
| 文献子类 | 期刊论文 |
| 源URL | [http://159.226.55.106/handle/172511/16215]  |
| 专题 | 微电子研究所_集成电路先导工艺研发中心 |
| 作者单位 | 中国科学院微电子研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Chen WH,Luo J,Meng LK,et al. Atomic layer deposition assisted pattern transfer technology for ultra-thin block copolymer films[J]. Thin Solid Films,2016. |
| APA | Chen WH.,Luo J.,Meng LK.,Li JJ.,Xiang JJ.,...&Ye TC.(2016).Atomic layer deposition assisted pattern transfer technology for ultra-thin block copolymer films.Thin Solid Films. |
| MLA | Chen WH,et al."Atomic layer deposition assisted pattern transfer technology for ultra-thin block copolymer films".Thin Solid Films (2016). |
入库方式： OAI收割
来源：微电子研究所
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