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InP基板上的Ⅱ-Ⅵ/Ⅲ-Ⅴ层状构造

文献类型:专利

作者孙晓光; 托马斯·J·米勒; 迈克尔·A·哈斯
发表日期2009-01-07
专利号CN101341022A
著作权人3M创新有限公司
国家中国
文献子类发明申请
其他题名InP基板上的Ⅱ-Ⅵ/Ⅲ-Ⅴ层状构造
英文摘要本发明提供一种层状构造,所述层状构造包括InP基板以及II-VI和III-V材料的交替层。II-VI和III-V材料的所述交替层典型地与所述InP基板晶格匹配或假晶。典型地,所述II-VI材料选自CdZnSe、CdMgZnSe、BeZnTe、或BeMgZnTe合金,并且最典型地为CdxZn1-xSe,其中x介于0.55和0.57之间。典型地,所述III-V材料选自InAlAs或AlInGaAs合金,并且最典型地为InP或InyAl1-yAs,其中y介于0.53和0.57之间。所述层状构造可形成一个或多个分布的布拉格反射器(DBR)。在另一方面,本发明提供一种层状构造,所述层状构造包括InP基板以及具有95%或更大的反射率的分布的布拉格反射器(DBR),所述反射器包括不超过15层的外延半导体材料对。在另一方面,本发明提供包括层状构造的激光器或光电探测器。
公开日期2009-01-07
申请日期2006-10-31
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/90228]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位3M创新有限公司
推荐引用方式
GB/T 7714
孙晓光,托马斯·J·米勒,迈克尔·A·哈斯. InP基板上的Ⅱ-Ⅵ/Ⅲ-Ⅴ层状构造. CN101341022A. 2009-01-07.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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