机构

• 高能物理研究所 [1]

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• OAI收割 [1]

内容类型

• 期刊论文 [1]

发表日期

• 2005 [1]

学科主题

• Physics [1]

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浏览/检索结果: 共1条，第1-1条 帮助 限定条件 专题：高能物理研究所    第一署名单位    第一作者单位    通讯作者单位     条数/页： 5101520253035404550556065707580859095100 排序方式： 请选择题名升序题名降序提交时间升序提交时间降序作者升序作者降序发表日期升序发表日期降序 Fabrication of silicon nitride/refractory metal tantalum X-ray mask and its application 期刊论文  OAI收割 HIGH ENERGY PHYSICS AND NUCLEAR PHYSICS-CHINESE EDITION, 2005, 卷号: 29, 页码: #REF! 作者:  Xie, CQ;  Niu, JB;  Wang, DQ;  Dong, LJ;  Chen, DP 收藏  |  浏览/下载：16/0  |  提交时间：2016/04/12 proximity X-ray lithography  X-ray mask  TaSi film  inductively coupled plasma  synchrotron radiation