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发表日期

• 2012 [1]

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浏览/检索结果: 共1条，第1-1条 帮助 限定条件 发表日期：2012    专题：上海微系统与信息技术研究所    第一署名单位    第一作者单位    通讯作者单位     条数/页： 5101520253035404550556065707580859095100 排序方式： 请选择题名升序题名降序提交时间升序提交时间降序作者升序作者降序发表日期升序发表日期降序 Interface dipole engineering in metal gate/high-k stacks 期刊论文  OAI收割 CHINESE SCIENCE BULLETIN, 2012, 卷号: 57, 期号: 22, 页码: 2872-2878 Huang, AP; Zheng, XH; Xiao, ZS; Wang, M; Di, ZF; Chu, PK 收藏  |  浏览/下载：19/0  |  提交时间：2013/04/17 high-k dielectrics  metal gate  interface dipole  MOS stack  effective work function