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机构
上海微系统与信息技术... [2]
西安光学精密机械研究... [1]
采集方式
OAI收割 [3]
内容类型
期刊论文 [2]
专利 [1]
发表日期
2013 [1]
2012 [1]
2011 [1]
学科主题
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浏览/检索结果:
共3条,第1-3条
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一种高质量应变的Ge/SiGe超晶格结构及其制备方法
专利
OAI收割
专利号: CN102162137B, 申请日期: 2013-05-29, 公开日期: 2013-05-29
作者:
刘学超
;
杨建华
;
施尔畏
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提交时间:2019/12/26
SiGe薄膜的RPCVD负载影响及特性研究
期刊论文
OAI收割
材料导报, 2012, 期号: 14, 页码: 22-24+32
陈达
;
刘林杰
;
薛忠营
;
刘肃
;
贾晓云
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浏览/下载:18/0
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提交时间:2013/02/22
薄膜
减压化学气相沉积
硅锗
负载影响
体硅上外延超薄Si1-xGex用于制备SGOI材料
期刊论文
OAI收割
功能材料与器件学报, 2011, 期号: 02
薛忠营
;
张波
;
魏星
;
张苗
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浏览/下载:12/0
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提交时间:2012/04/13
外延
应变
锗硅
SGOI