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半导体外延晶片及其制造方法 专利  OAI收割
专利号: CN100440429C, 申请日期: 2008-12-03, 公开日期: 2008-12-03
作者:  
佐藤薰由;  铃木良治
  |  收藏  |  浏览/下载:9/0  |  提交时间:2019/12/26