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一种W-B-C硬质涂层及其制备方法和应用 专利  OAI收割
专利号: 201510185874.3, 申请日期: 2019-04-16,
作者:  
裴志亮、刘艳明、蒋春磊、宫骏、孙超
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偏压对直流磁控溅射制备的AlB2-type WB2薄膜结构和性能的影响 会议论文  OAI收割
第十届全国表面工程大会暨第六届全国青年表面工程论坛, 中国湖北武汉, 2014
刘艳明; 蒋春磊; 裴志亮; 雷浩; 宫骏; 孙超
收藏  |  浏览/下载:55/0  |  提交时间:2015/05/08