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一种优化量子阱HEMT器件沟道层厚度的方法 专利  OAI收割
专利类型: 发明, 专利号: 201210072930.9, 申请日期: 2014-01-01, 公开日期: 2015-01-06
1胡伟达 2 王晓东 3 陈效双 4 陆卫
收藏  |  浏览/下载:22/0  |  提交时间:2015/01/06
一种双沟道MOS-HEMT器件及制作方法 专利  OAI收割
专利号: 201010234859.0, 申请日期: 2012-01-01, 公开日期: 2013-01-14
作者:  
1胡伟达 2 王晓东 3 陈效双 4 陆卫
  |  收藏  |  浏览/下载:9/0  |  提交时间:2013/01/14
一种双异质结MOS-HEMT器件 专利  OAI收割
专利号: 201010107441.3, 申请日期: 2011-01-01, 公开日期: 2011-07-07
作者:  
1胡伟达 2 王林 3 王晓东 4 陈效双 5 陆卫
  |  收藏  |  浏览/下载:12/0  |  提交时间:2011/07/07