机构

• 上海光学精密机械研究... [1]

采集方式

• OAI收割 [1]

内容类型

• 期刊论文 [1]

发表日期

• 2013 [1]

学科主题

筛选

浏览/检索结果: 共1条，第1-1条 帮助 条数/页： 5101520253035404550556065707580859095100 排序方式： 请选择题名升序题名降序提交时间升序提交时间降序作者升序作者降序发表日期升序发表日期降序 Effect of Advanced Plasma Source bias voltage on properties of HfO2 films prepared by plasma ion assisted electron evaporation from metal hafnium 期刊论文  OAI收割 thin solid films, 2013, 卷号: 540, 页码: 17 作者:  Zhu, Meiping;  Yi, Kui;  Arhilger, Detlef;  Qi, Hongji;  Shao, Jianda 收藏  |  浏览/下载：16/0  |  提交时间：2016/11/28