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Response to Comments on E. Huttunen-Saarivirta et al., "Kinetic Properties of the Passive Film on Copper in the Presence of Sulfate-Reducing Bacteria" [J. Electrochem. Soc., 165, C450 (2018)] 期刊论文  OAI收割
JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY, 2019, 卷号: 166, 期号: 10, 页码: Y17-Y26
作者:  Huttunen-Saarivirta, E.;  Rajala, P.;  Carpen, L.;  Wang, J.;  Liu, F.
  |  收藏  |  浏览/下载：5/0  |  提交时间：2021/02/02
Response to Comments on E. Huttunen-Saarivirta et al., "Kinetic Properties of the Passive Film on Copper in the Presence of Sulfate-Reducing Bacteria" [J. Electrochem. Soc., 165, C450 (2018)] 期刊论文  OAI收割
JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY, 2019, 卷号: 166, 期号: 10, 页码: Y17-Y26
作者:  Huttunen-Saarivirta, E.;  Rajala, P.;  Carpen, L.;  Wang, J.;  Liu, F.
  |  收藏  |  浏览/下载：2/0  |  提交时间：2021/02/02
Response to Comments on E. Huttunen-Saarivirta et al., "Kinetic Properties of the Passive Film on Copper in the Presence of Sulfate-Reducing Bacteria" [J. Electrochem. Soc., 165, C450 (2018)] 期刊论文  OAI收割
JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY, 2019, 卷号: 166, 期号: 10, 页码: Y17-Y26
作者:  Huttunen-Saarivirta, E.;  Rajala, P.;  Carpen, L.;  Wang, J.;  Liu, F.
  |  收藏  |  浏览/下载：43/0  |  提交时间：2019/12/18